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晶圆半导体SEN日森批量光学表面处理设备

晶圆半导体SEN日森 PL5-908P 批量光学表面处理设备
晶圆半导体SEN日森批量光学表面处理设备

  • 产品型号:PL5-908P
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2026-08-14
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晶圆半导体SEN日森批量光学表面处理设备

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整机核心规格

  1. 有效照射面积:400mm × 400mm(同系列常压机型最大台面)

  2. 光源配置:内置 5 根原装 PL5-908P 双波段 UV 清洗灯

  3. 驱动电源:标配5 台 SSP-48 安定器,单灯独立控制

  4. 腔体结构:上掀开盖 + 滑动遮光快门结构

    • 快门式遮光,无需停机即可取放工件,连续批量加工

    • 门联锁安全保护,开盖自动切断 UV 光源

  5. 排风系统:内置强力臭氧排风,及时排出臭氧,保护工件与人员

  6. 控制系统:数显定时,可单独设定照射时长、循环模式,支持对接 PLC 自动化

  7. 适用环境:无尘车间、光学 / 半导体量产线,常压干式清洗,无需真空机组

PL5-908P 原装灯管参数(整机标配耗材)

  • 波段:185nm(臭氧氧化)+254nm(断键清洗)双波段透臭氧石英管

  • 功率:90W / 支

  • 发光长度:800mm,总长 908mm(型号数字由来 908)

  • 灯头:陶瓷双端接头,插拔式快速更换

  • 标准寿命:5000 小时,光衰低,大面积照射均匀无暗区

  • 适配:仅 PL5-908P 设备专用,不可混用 PL1-1107A 灯管(长度、功率不匹配)

清洗原理与功能

和全系 SEN UV 清洗机原理一致:
  1. 185nm 紫外电离空气生成臭氧,强氧化分解指纹、油污、脱模剂、光刻胶残渍、有机微粒

  2. 254nm 短波紫外直接打断有机物分子化学键,纳米级干式除污

  3. 同步表面活化:降低水接触角,大幅提升粘接、点胶、镀膜、印刷附着力

适用工件与行业

  • 显示:LCD/ITO 大尺寸玻璃、光学基板、薄膜基材

  • 光学:大尺寸镜头、棱镜、石英镀膜片、红外镜片

  • 半导体:中大尺寸载板、陶瓷基板、硅片预处理

  • 精密塑胶 / 医疗:大型塑胶外壳、高分子医疗器械粘接前活化

  • 电镀 / 喷涂:大面积板材前处理

名称批量光学表面处理设备
类型PL5-908P
概述表面处理配备滑套式快门光源。
目的·提高树脂表面的润湿性
・各种基材材料的预处理
・膜和玻璃
表面的清洁 ・金属表面改性

特色·照射尺寸为400×400毫米,适用于从科研到生产机器的广泛应用。
·样品架为快门式,允许在照明时安全拆卸工件。


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