代理TAIMEI大明化学 TM-DA 低温烧结基础氧化铝粉
代理TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉

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代理TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉

TM-DA是TAIMICRON系列中专为光学应用设计的高透光性型号。它在前代通用型TM-D的基础上，对光学性能进行了专项优化。

📊 核心规格与参数

• 高纯度：Al₂O₃含量 ≥ 99.99%。关键杂质如Si、Fe、Na均低于10ppm，放射性元素U、Th含量< 0.01ppm。

• 超细粒径：一次粒子径0.10 - 0.12 μm，中位径d50约0.17 μm。

• 比表面积：12.5 - 13.5 m²/g。

• 烧结特性：推荐烧结温度1350℃，烧结密度3.95 g/cm³。

⚙️ 工艺原理：如何实现高透光性？

TM-DA实现高透光性的关键在于两点：

1. 高纯度：高纯度（99.99%以上）意味着极少的光吸收杂质。特别是对U、Th等元素的严格控制，避免了因杂质引入的色心而导致光被吸收。

2. 致密化：超细粉体在1350℃下可烧结至接近理论密度（3.95 g/cm³）。通过热等静压（HIP） 等优良工艺，能消除内部气孔，得到几乎致密的陶瓷体，从而将光线散射降低。

💎 核心应用：光学与半导体领域

凭借高透光性，TM-DA主要应用于对光学性能要求高的领域。

• 光学器件：用于制造高压钠灯电弧管、激光增益介质的透明陶瓷，以及人造红宝石、YAG激光晶体等。

• 半导体与电子：高纯度使其成为半导体制造治具、IC基板的理想材料。

• 精密陶瓷：也用于制造骨骼、牙科材料、高精度轴承等高强度、高耐磨部件。

📋 系列内横向对比

为了更直观地理解TM-DA的定位，以下是它与TM-D、TM-DAR等型号的对比：

补充说明：与追求极至纯度的TM-DAR不同，TM-DA是在保持高纯度的基础上，重点优化了光学透过性，是制造高性能透明陶瓷的核心材料。