日本进口代理OTSUKA大塚电子 FE-5000S 椭圆偏光量测仪
日本进口代理OTSUKA大塚电子椭圆偏光量测仪

日本进口代理OTSUKA大塚电子椭圆偏光量测仪

日本进口代理OTSUKA大塚电子椭圆偏光量测仪

FE-5000S由于是采用２次CCD检出器及创造的光学系统，与以往所不同的是，目前采广带区域（300～800nm）之分光Ellipsometry，能简单且高速高精度测量。

本系统之入射角度能自动SCAN(采用正弦杆自动驱动方式)及分析SCAN DATA、更能做高精度之分析。薄膜材料之多层薄膜之膜厚分析、折射率分析、薄膜界面、结晶混合等等，都能被分析。本系统之构成，可从研究单位到品质管理单位，因此，适用范围极为广泛。

◉nm薄膜之膜厚测量：以非接触非破坏性测量多层膜厚
◉材料表面的光学系数(n,k)之测量：在膜厚管理、膜质管理上,提供实用之情报
　膜厚,光学系数(n:折射率,k:消衰系数), Ellipso Parameter(Tanψ及cosΔ)]
◉采用400ch以上的光谱椭圆法、能迅速地测量Spectrum Spectrum point数极多,能很正确的测量急峻变化之Ellipso Spectrum
◉由于反射角度为可变（正弦杆(Sine Bar) 自动驱动方式）,更能充份对应出高精度分析
◉可对应至客户端依分析之材料物性和多层膜厚等之高度评价工程：
　依“有效媒质近似"(EMA),能测量复素折射率之波长分散値、混合结晶之混合比、界面之厚度等等
　依照各种光学系数函数和膜Model之分析,能充份对应薄膜界面等之材料物性评价工程

椭圆参数量测(tanψ、cosΔ)
光学常数分析(n、k)
多层膜厚分析

椭圆偏光仪和显微分光膜厚计OPTM的功能比较

椭圆偏光法

椭圆偏光法的基本原理是将光入射于物质，藉由物质之介电性质所造成的反射光偏振变化，以取得材料光学特性与表面覆膜之厚度。一般而言，光照射在物质时，入射光与反射光的偏振状态不会相同。藉由此偏振状态的差异，可测得反射表面的状态。对入射光与反射光所形成的面，平行之光波振幅称之为P偏振光，垂直之光波振幅称之为S偏振光。

一般未带有偏振特性的光，在通过45度倾斜的偏光片后，P与S偏振光的相位会相同，强度也会成为1：1的直线偏振光。这道直线偏振光在照射物质后所产生的反射光，会与照射前的P与S偏振光间产生相位差Δ。由于照射在物体表面的P与S偏振光的反射率相异，P与S偏振光的反射光强度亦不会相同。将P与S偏振光的相位差値代入△，反射振幅比为tanψ，可参考如下的公式

规  格

	FE-5000S
样品对应尺寸	100*100毫米
量测方式	偏光片元件旋转方式
入射/反射角度范围	45-90度
入射反射角度驱动方式	反射角度可自动变更
波长量测范围	300-800纳米
分光元件	野外测距仪
尺寸	650（高）*400（深）*560（宽）毫米
重量	约50公斤